MOCVD技术简述以及一种生长ZnO、ZnS薄膜用的小型MOCVD设备的研制
本文对LPE、VPE、MBE、MOCVD技术的特点、局限性进行了一定比较;简要论述了MOCVD的反应动力学原理以及反应过程;讲述了制作一台完备的MOCVD设备所需各组成部件的要求、特点、结构.同时介绍了一种适用于ZnO、ZnS膜生长的小型MOCVD设备的制作原理、机械结构等;此台设备是根据我们自身的工作和实验条件,自行研制组装的.
金属有机化学气相淀积 反应动力学 氧化锌膜 硫化锌薄膜 MOCVD设备
郑凯 马骁宇 张迎春 安琪
中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心 北京北仪创新真空技术有限责任公司
国内会议
牡丹江
中文
33-37
2003-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)