高纯四乙氧基硅中痕量杂质的检测
检测高纯四乙氧基硅中痕量杂质元素必须首先配制可以用于检测的水性溶液,四乙氧基硅不溶于水,在空气中慢慢水解,遇酸快速水解生成二氧化硅胶凝物,由于二氧化硅的共沉淀作用,分解产生的二氧化硅胶凝物会将痕量金属杂质包裹在里面,影响杂质检测的可信度,同时大量硅基体的存在对上机测试也会带来严重的基体干扰;我们通过文献调研及大量实验条件摸索,用超纯氢氟酸来分解四乙氧基硅,取得了比较好的结果,既配制出澄清的均相测试溶液,又解决了硅基本的干扰问题,保证了测试结果的真实性.
四乙氧基硅 痕量杂质检测 化学气相淀积
虞磊 孔令宇 潘毅
南京大学化学化工学院国家863计划新材料MO源研究开发中心(南京)
国内会议
牡丹江
中文
27-28
2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）