化学增幅抗蚀剂用光产酸源
本文对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了说明.介绍了化学增幅作用中的关键组分-光产酸源和酸增殖剂的发展概况.并对重氮盐、鎓盐、有机多卤化物、磺酸酯类化合物等产酸源的产酸机理、适用光源分别进行了阐述.从目前国际发展的趋势来看,硫鎓盐和磺酸酯类的光产酸源占据主要地位,有机多卤化物中的三嗪化合物还有少量应用.嚬哪醇单磺酸酯类化合物作为酸增殖剂使用较为普遍.
化学增幅 抗蚀剂 光产酸源 酸增殖剂
杨凌露 张改莲 余尚先
北京师范大学化学系(北京)
国内会议
北京
中文
73-80
2002-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）