会议专题

氮气氛退火对纳米硅--氧化硅薄膜中氧的形态的影响

氮气氛退火 纳米硅--氧化硅薄膜

樊瑞新

浙江大学硅材料渐家重点实验室(杭州)

国内会议

第十二届全国半导体物理学术会议

上海

中文

60-60

1999-10-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)