UHV／CVD生长Si 1-xGe x／Si合金锗偏聚的研究*

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）