P型Si上Ni-Pd薄膜的电沉积及XRD研究

摘要：

采用控电位沉积方式在P-Si上制备了Ni-Pd合金薄膜，考察了阴极沉积行为，研究了电沉积条件对膜组成的影响，并探讨了膜组成与结构的关系。XRD测试表明Ni-Pd合金呈面心立方的固溶体结构，其晶面间距随合金组成不同而变化。

关键词： X射线衍射分析 镍钯合金 镀合金 电沉积 P型硅 P型半导体

作者: 龚正烈 姚素薇 张国庆 刘冰 郭鹤桐

作者单位: 天津理工学院 天津大学应用化学系

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国表面工程协会电镀分会第五届年会

会议地点: 合肥

会议语种:中文

在线出版日期: 1998-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）