关键词： 单晶硅 正电子 迁移率
作者: 朱凯 周先意 张天昊 叶邦角 周永钊 范扬眉 翁惠民
作者单位: 中国科学技术大学近代物理系(合肥)
会议类型: 国内会议
会议名称: 全国第七届正电子湮没学术会议
会议地点: 泉州
会议语种:中文
页码: 24-24
在线出版日期: 1999-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）