偏压对铀上磁控溅射铝镀层微结构及残余应力的影响
分别用扫描电镜、X射线衍射仪和应力分析仪研究了5种不同偏压的施加对铀上磁控溅射铝镀层微结构和残余应力的影响.结果表明,偏压强烈影响镀层的组织.-300V下的组织致密性最差,低偏压下的优于未加偏压(0V)的;偏压在-200V及以下时的铝镀层择优取向于(111)低能晶面,高于-200V时,择优取向由(111)转变为(200)晶面.不同偏压条件下制备的铝镀层的残余应力均较小,为数十MPa量级,但随着偏压的逐渐增加,残余应力由拉应力向压应力转变.
偏压 微结构 残余应力 铀 磁控溅射 铝镀层
吕学超 汪小琳 鲜晓斌 郎定木 董平
中国工程物理研究院(四川绵阳)
国内会议
包头
中文
121-125
2003-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）