用薄膜内耗仪测定薄膜应力

摘要：

采用一种新的薄膜内耗仪观测Ni<,50>Ti<,50>薄膜样品的形变(薄膜形变造成薄膜与载膜硅片之间的界面应力)随温度或其它环境参量的变化.同步测量了薄膜的内耗、动态模量、薄膜应力以及Ni<,50>Ti<,50>薄膜的相变过程.

关键词： 内耗 形状记忆效应 薄膜应力 薄膜内耗仪 相变过程

作者: 李健 M.Wuttig

作者单位: 上海宝山钢铁股份公司分析技术中心(上海) Department of Materials,University of Maryland,MD 20742-2115,USA

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国内耗与超声衰减学术会议暨第六届中国物理学会内耗与超声衰减专业委员会全体大会

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 1225-1227

在线出版日期: 2003-11-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）