硅基AlN薄膜的成分与表面分析

摘要：

采用直流磁控反应溅射法制备了具有较好(002)择优取向性的硅基AlN薄膜.用俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组成成分和表面形貌进行了分析.

关键词： 氮化铝薄膜 表面形貌 薄膜成分 磁控反应溅射

作者: 于毅 赵宏锦 任天令 刘理天

作者单位: 清华大学微电子学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届”测量与控制在资源节约、环境保护中的应用”学术会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 278-279

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）