集成铁电器件中的关键工艺研究

摘要：

对集成铁电器件中的关键工艺进行了研究,采用改进的溶胶—凝胶(Sol-Gel)法制备了高品质、(110)择优取向的锆钛酸铅(PZT)铁电薄膜,成功的利用离子束刻蚀(IBE)、反应离子刻蚀(RIE)和湿法腐蚀方法对PZT薄膜进行了刻蚀加工,采用正胶剥离和干法刻蚀工艺实现了金属铂(Pt)电极图形,为集成铁电器件的实现提供了良好的工艺基础.

关键词： 铁电薄膜 锆钛酸铅 铁电材料 刻蚀加工

作者: 杨轶 张宁欣 任天令 刘理天

作者单位: 清华大学微电子学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届”测量与控制在资源节约、环境保护中的应用”学术会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 192-193

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）