脉冲激光溅射及富—锆PZT薄膜的性能研究

摘要：

采用脉冲激光溅射方法将PZT、YBCO沉积在LaAlO<,3>(LAO)基底上,所选择的烧结靶材是Pb(Zr<,0.94>Ti<,0.06>)O<,3>+2％Bi<,2>O<,3>.沉积YBCO和PZT薄膜的基底温度分别为710℃和570℃.整体结构PZT/YBCO/LAO在600℃的基底温度下退火15min.本文通过X射线衍射分析观察了薄膜的结晶状态,利用P-V曲线估计PZT薄膜的电学性质,并测量出薄膜的介电常数与频率(ε-f)以及介电损耗与频率(tanδ-f)的关系曲线.

关键词： 脉冲激光溅射 X射线衍射 铁电薄膜

作者: 彭润玲

作者单位: 上海理工大学(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届”测量与控制在资源节约、环境保护中的应用”学术会议

会议地点: 沈阳

会议语种:中文

页码: 173-174

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）