用于纳米光电子器件加工的纳米金属膜的制作

摘要：

在利用Top-Down方式加工纳米电子器件和纳米光电子器件的研究中,纳米薄膜的制作和加工技术是一个关键环节.采用金属Ti-SOS结构的纳米器件,Ti膜的厚度和成膜质量成为影响基于AFM针尖诱导氧化加工Ti纳米氧化线/电路图形结构质量的重要因素.文中叙述了Ti膜的制备和检测方法,给出了纳米Ti膜的制备和在一定环境下对其进行氧化加工的结果.

关键词： 纳米器件 Ti膜 纳米金属膜 原子力显微镜 制备方法

作者: 王战 刘庆纲 匡登峰 米文博 白海力 胡小唐

作者单位: 天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室(天津) 天津大学应用物理学院(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国仪器仪表学会第五届青年学术会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 563-565

在线出版日期: 2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）