氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术
研究了由Ta<,2>O<,5>和SiO<,2>组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺.简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法.先后得到了Ta<,2>O<,5>和SiO<,2>单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜折射率,并定性地分析比较了离子束溅射和电子束蒸发制备的薄膜结构;制备并测试了633nm,1 315nm反射薄膜以及增透膜.结果表明:采用离子束溅射技术能够制备出优良的、满足需要的激光高反射薄膜元件.
离子束溅射 均匀性 激光高反射薄膜 增透膜 薄膜厚度
申林 熊胜明 刘洪祥 李凌辉 张云洞
中国科学院光电技术研究所(四川成都)
国内会议
北京
中文
595-600
2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）