色分离光栅的制作及工艺研究

摘要：

介绍了色分离光栅的设计原理,对CSG的制作工艺进行了研究.用套刻的工艺方法,以30°的离子束入射角,能量为450eV、束流密度为80mA/cm<”2>的离子束对100×100mm石英基片进行刻蚀,制作出了周期为300um的色分离光栅.实验测试得到零级次上3ω(0.351um)光的衍射效率达到了百分之九十以上.结果表明,这套工艺方法在制作CSG上是可行的.

关键词： 色分离光栅 光刻 离子束刻蚀 制作工艺

作者: 刘刚 胡新宁 田扬超

作者单位: 中国科学技术大学国家同步辐射实验室(合肥)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国激光科学技术青年技术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 316-319

在线出版日期: 2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）