紫外激光薄膜损伤机理研究
本文研究了HfO<,2>/SiO<,2>高反射膜在YAG三倍频激光作用下的损伤机理,两种纯度不同的HfO<,2>被用于反射膜的制备,其材料的杂质元素含量由辉光放电质谱仪测量,成膜的杂质元素含量由XPS测量.对两种高反射膜用355nm激光分别进行了1-on-1和s-on-1阈值测试,并利用光学显微镜和表面轮廓仪对样品的损伤行貌进行了分析.实验结果发现,材料纯度对1-on-1阈值有较大影响而对s-on-1阈值则影响很小,并且损伤的行貌也有不同的表现.从单脉冲到重复率激光损伤的机理也由吸收缺陷损伤过渡到结构缺陷损伤.
紫外激光 HfO<,2>/SiO<,2>高反射膜 激光损伤阈值 杂质损伤 缺陷损伤 激光薄膜
易葵 赵元安 高卫东 金永浩 邵建达 范正修
中国科学院上海光学精密机械研究所
国内会议
北京
中文
287-291
2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）