离子束溅射制备氧化物激光高反射镜

摘要：

该文研究了采用双离子束溅射沉积技术制备由Ta<,2>O<,5>和SiO<,2>组成的多层激光高反射薄膜的工艺技术.简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法.最后给出了Ta<,2>O<,5>和SiO<,2>单层薄膜厚度均匀性调控结果、不同波长处薄膜折射率、633nm、1315nm反射镜的镀制工艺及测试结果.研究结果表明,采用离子束溅射技术能够制备出优良的、Φ200范围内厚度分布差异小于±0.5﹪、满足需要的激光高反射薄膜元件.

关键词： 离子束溅射 均匀性 激光高反射薄膜 薄膜厚度

作者: 申林 熊胜明 刘洪祥 李凌辉 张云洞

作者单位: 中国科学院光电技术研究所(成都双流)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国激光科学技术青年技术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 229-232

在线出版日期: 2003-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）