热灯丝辅助PCVD生长金刚石厚膜

摘要：

该文设计出了热灯丝辅助PCVD金刚石厚膜沉积方法，该方法实现了以20～30μm／h的沉积速率沉积高品质的金刚石厚膜。该文对所制备的金刚石厚膜的取向用XRD进行分析，发现随着膜厚的增加，<110>取向度急剧增加。研究人员认为，这是生长过程中<111>晶面劈裂成三个<110>晶面的原因。

关键词： HF-PVCD 金刚石厚膜 <110>取向

作者: 王佳宇 吕宪义 孙越 白亦真

作者单位: 大学超硬材料国家重点实验室(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第三届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 1012～1013

在线出版日期: 1998-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）