一种制作硅垂直光亮微镜面的方法

摘要：

介绍了一种利用KOH溶液对硅的各向异性腐蚀原理,并结合抛光技术制作垂直的<100>光学微镜面的方法.制成的微镜高度300μm,厚度3.3μm,宽度容易控制.初步测试对1.55μm波长光源插入损耗接近1dB.

关键词： 各向异性腐蚀 抛光 微镜 微机械工艺 光开关

作者: 向民 李铁 王跃林

作者单位: 中国科学院上海冶金研究所传感技术国家重点实验室(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 97-99

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）