亚微米YBCO薄膜厚度均匀性的EDS测试
给出了采用EDS(电子能量色散谱)测量纳米薄膜厚度的方法.针对电子束入射”薄膜/基片”系统条件下电子束激发X射线的情形,分析了特征X射线产生范围、临界激发能E<,f>的概念及其二者之间的相互关系,讨论了确定E<,f>的方法,阐述了利用EDS测量纳米薄膜厚度的原理,并具体对YBCO超导薄膜厚度的均匀性给出了测试结果.实验结果表明,该测试方法不但适用于纳米薄膜厚度的测量技术,而且还具有快速、微区和无损的特点.与目前流行的几种纳米薄膜厚度测试方法相比,具有很好的互补性.
纳米薄膜 薄膜厚度 电子能量色散谱 无损测试 钇钡铜氧薄膜
秦会斌
杭州电子工业学院电子信息材料与器件实验室(杭州)
国内会议
重庆
中文
406-409
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）