一种新型的金属剥离技术研究

摘要：

提出了一种用于MEMS工艺的DRT金属剥离新技术.采用双层普通正性光刻胶,两次曝光,再用甲苯处理,使光刻胶断面上宽下窄,表面呈倒角悬垂.淀积金属后,用丙酮作剥离液,不需要加速超声波振动,很容易地完成金属剥离.

关键词： 光刻 金属剥离 微机械电子系统

作者: 闫桂珍 张大成 李婷 王颖

作者单位: 北京大学微电子学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 312-314

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）