电化学微加工系统的研究

摘要：

约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术.文章根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发.利用研制的加工仪器,用同一模板,在半导体GaAs进行刻蚀加工,成功地复制出两幅相似三维图形.

关键词： 约束刻蚀剂层技术 纳米级微定位 压电陶瓷 电化学微加工系统 刻蚀加工

作者: 刘品宽 曲东升 张秀峰 孙立宁 孙建军 黄海苟 田昭武 夏善红

作者单位: 哈尔滨工业大学机器人研究所(哈尔滨) 厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室(厦门) 中国科学院北京电子研究所,传感器国家重点实验室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 100-103

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）