提高MEMS侧壁陡度的一种新方法

摘要：

随着微型机电系统(MEMS)的迅速发展,对生产MEMS的微细加工设备的需求也越来越大.本文重点介绍深度光刻机中的掩模和硅片间的菲涅耳衍射对侧壁陡度的影响,以及运用一种微阵列积分镜去平滑菲涅耳衍射效应,从而提高MEMS的侧壁陡度,最后给出了实验的结果.

关键词： MEMS 深度光刻机 微阵列积分镜 侧壁陡度 微机械电子系统 菲涅尔衍射

作者: 余国彬 姚汉民 胡松

作者单位: 中国科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 116-118

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）