用光反射差法原位监测薄膜外延生长

摘要：

薄膜生长过程中,原位监测膜层的表面平整度对薄膜和超晶格的制备是至关重要的.监测通常用高能电子衍射(RHEED).但是这种设备在真空室压强高于10<”-5>Pa时就不能工作.我们发展了一种新的被称为光反射差的监测方法.这种方法具有高灵敏度,可以监测薄膜外延生长.而其优点是不需要真空环境.本文给出光反射差监测装置的结构和实验结果.

关键词： 光反射差法 薄膜生长 外延生长 原位监测

作者: 周岳亮 吕惠宾 朱湘东 崔大复 陈凡 陈正豪 杨国桢

作者单位: 中国科学院物理研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 2002年全国电子测控工程学术年会

会议地点: 武夷山

会议语种:中文

页码: 226-228

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）