光纤制备工艺的演进

摘要：

本文着重介绍了光纤制备工艺发展、成熟的历史,详细介绍了外气相沉积(OVD)、轴向气相沉积(VAD)、化学气相沉积法(MCVD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)等四种方法的发明和进展历程.

关键词： 光纤 制备工艺 外气相沉积 轴向气相沉积 化学气相沉积法 等离子体化学气相沉积法

作者: 查健江

作者单位: 江苏法尔胜光子有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会光电线缆学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 58-65

在线出版日期: 2002-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）