化学腐蚀法制备多晶硅的绒面

摘要：

为了降低光在多晶硅表面的反射,已经采用化学腐蚀法制备了多晶硅的绒面.通过反射光谱测试结果研究了不同的多晶硅绒面的形貌特征及光学特性.在适当的腐蚀液中制备的3×3cm<”2>的多晶硅绒面,其表面反射率在300-1000nm波长范围内不超过6﹪.这一结果可以和具有双层减反射膜的多晶硅表面的反射率相比拟.

关键词： 化学腐蚀法 绒面 多孔硅 制备方法 光学特性 多晶硅电池

作者: 卢景霄 谷锦华 李维强

作者单位: 郑州大学物理工程学院(郑州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国第七届光伏会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 273-276

在线出版日期: 2002-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）