用离子束溅射反应沉积制备CN<,x>薄膜及其性质

摘要：

采用真空离子束溅射反应沉积技术在不同N<,2>压强下制备了一组CN薄膜.研究这种薄膜的暗电导和在卤素光光源照射下的亮电导、响应时间等主要光电导性质与制备条件、掺杂以及氢化的关系.

关键词： 碳氮薄膜 真空离子溅射 光电导性质 薄膜制备

作者: 刘梅苍 丁尔峰 周之斌 崔容强

作者单位: 上海交通大学,物理系,太阳能研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国第七届光伏会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 102-105

在线出版日期: 2002-10-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）