会议专题

磁控反应溅射氮化钽薄膜的最佳工艺研究

本文介绍了利用磁控反应溅射的方法,找到与制备低温度系数、高稳定性、高精度氮化钽薄膜电阻器相关的氮分压、溅射电压及烘烤温度等的最佳工艺条件,并给出X射线衍射的分析结果。

磁控溅射 氮化钽 X射线衍射

丁玲 许春芳 郭方敏 夏冠群

师范大学电子科学技术系(上海) 院上海冶金研究所 (上海)

国内会议

中国电子学会第四届青年学术年会

北京

中文

426~429

1998-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)