磁控反应溅射氮化钽薄膜的最佳工艺研究

摘要：

本文介绍了利用磁控反应溅射的方法，找到与制备低温度系数、高稳定性、高精度氮化钽薄膜电阻器相关的氮分压、溅射电压及烘烤温度等的最佳工艺条件，并给出X射线衍射的分析结果。

关键词： 磁控溅射 氮化钽 X射线衍射

作者: 丁玲 许春芳 郭方敏 夏冠群

作者单位: 师范大学电子科学技术系（上海） 院上海冶金研究所 （上海）

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电子学会第四届青年学术年会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 426～429

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）