关键词： 磁场 减压 充氧 硅 单晶生长 电阻率
作者: 于伟波 杨德仁 阙端麟
作者单位: 大学硅材料国家重点实验室
会议类型: 国内会议
会议名称: 1998年全国半导体硅材料学术会议
会议地点: 上海
会议语种:中文
页码: 61～64
在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）