钴铬垂直磁化膜的高分辨显微学研究
钴铬薄膜是垂直磁化薄膜的基本品种.国内外研究多限于宏观测试和某些典型的微观分析.结晶结构则认为是非磁铬在磁性钴晶粒间界析出隔离形成钴单畴颗粒的观点.对薄膜结晶结构与磁畴结构关系及其机理的高分辨显微学研究则极少见.本文正是把高分辨透射电镜、能谱分析、原子力显微镜AFM和磁力显微镜MFM等方法结合起来对薄膜的晶粒结构和尺寸、成分分布、磁畴结构和尺寸及单畴颗粒形成机理等问题,着重从高分辨显微学及微磁学理论深入研究,对单畴颗粒形成与结晶结构的关系作了分析,对单畴颗粒形成的临界尺寸作了估算,都得到与实验很好符合的结果.
垂直磁化薄膜 磁化强度 结晶结构 磁畴结构 微磁学
潘国宏 张小平 孙允希 王勤堂 孙玉秀
北京大学物理系微电子所(北京)
国内会议
厦门
中文
577-578,591
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）