纳米SiO<,2>粉体的制备与研究

摘要：

纳米SiO<,2>粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂,在适宜的pH值和温度下,采用化学沉淀法合成.要得到性能优良纳米的SiO<,2>粉体,最佳工艺条件为:温度20~40℃,pH6,反应液质量浓度P<,1>20g/L,P<,2>1.20g/L,反应时间为15min,结果表明:制备的纳米SiO<,2>粒径30~50nm,比表面积大,分散性好,质量优良,可达到产业化的生产.

关键词： 化学沉淀法 SiO<,2>粉体 纳米材料 工艺条件

作者: 童忠良

作者单位: 中国科学院研究生院

会议类型: 国内会议

会议名称: 2003年中国纳微粉体制备与技术应用研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 342-347

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）