膜结构的截面优化在MSC/NASTRAN上的二次开发
本文研究了膜结构在尺寸、应力和位移约束条件下的截面优化问题.以膜的厚度为设计变量,结构的重量最轻为目标,应力约束转化为动态尺寸下限,位移约束化为一阶近似,用对偶二次规划建立优化模型,采用序列二次规划SQP方法求解.使用二次规划算法求解器,求得对偶变量的解,经过转换、迭代最终得到满足尺寸、应力和位移约束的最优膜结构厚度.利用MSC/PCL语言将该算法在MSC/NATRAN上进行了程序实现,开发了新的优化模块.算例结果表明了程序的可靠性和精确性.
截面优化 多约束 二次规划 对偶规划 二次开发 膜结构
陈继华 隋允康 杜家政
北京工业大学机电学院数值模拟中心(北京)
国内会议
重庆
中文
1101-1104
2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）