混合表面活性剂为共模板合成中孔MCM-48

摘要：

本文以TX-100和CTAB为共模板,TEOS为硅源,在低表面活性剂/硅比值(0.152:1.0)、低表面活性剂浓度条件下(约4.6﹪)和较大的TX-100/CTAB比值范围内合成了有序性良好的中孔MCM-48.

关键词： 中孔分子筛 表面活性剂 模板 合成工艺

作者: 翟尚儒 蒲敏 吴东 孙予罕

作者单位: 中国科学院山西煤炭化学研究所煤转化国家重点实验室(太原)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国催化学术会议

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 1089-1090

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）