基片温度对Cr薄膜微结构和力学性能的影响

摘要：

本文采用ANELVA SPC-350多靶磁控溅射仪制备,Cr薄膜,并研究了基片温度从室温到450℃间对Cr薄膜的微结构和力学性能的影响.

关键词： 涂层材料 铬薄膜 溅射法 基片温度 电镜观察 薄膜微结构 力学性能

作者: 劳技军 韩增虎 胡晓萍 李戈扬 杨春生

作者单位: 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室(上海) 上海交通大学薄膜与微细技术教育部重点实验室(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子显微学会议

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 639-640

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）