基片温度对TiB<,2>薄膜生长形貌及力学性能的影响

摘要：

本文应用SPC350多靶磁控溅射仪制备TiB<,2>薄膜,并研究了基片温度分别在室温和450℃时对TiB<,2>薄膜生长形貌及力学性能的影响.

关键词： 涂层材料 TiB<,2>薄膜 基片温度 薄膜生长 显微镜观察 力学性能

作者: 虞晓江 田家万 邵楠 李戈扬

作者单位: 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国电子显微学会议

会议地点: 太原

会议语种:中文

页码: 637-638

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）