超精密修正环型平面抛光机运动特性的分析
材料的超精密加工已成为最前沿的研究领域之一.为了获得元器件的高性能,保证极高的加工质量,一种采用专家数据库智能控制系统的修正环型超精密平面抛光机被开发出来.在运动设计原理上,使工件加工表面各点相对于抛光盘的抛光线速度相等,且工件表面各点运动轨迹不重复.本文讨论了抛光机的运动特性,提出了”低速起动-无级提速-恒速加工-低速修整-低速停止”的加工运动模式,采用光栅测量和微机控制技术,将抛光盘总转数的精度控制在±0.5以内,保证加工余量去除误差在1nm以内,结合合理的加工工艺,获得晶片极高的平面度和理想的无损伤表面.
超精密抛光 运动特性 运行模式 功能陶瓷 平面抛光机
吕冰海 袁巨龙 常敏 赵文宏 潘峰
浙江工业大学机电学院(杭州)
国内会议
北京
中文
2633-2637
2002-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）