会议专题

计算机硬盘系统的表面纳米级抛光研究

硬盘以其种种优势在科学领域和生活上得到越来越广泛的应用,同时也不断地促进了相关领域科学技术的迅速发展.本文从摩擦学角度讨论了与硬盘系统相关的基于磁头/盘表面与界面的微/纳米设计和加工的技术与理论的研究进展,并讨论磁头飞行特性与表面形状设计、非均质多组元表面纳米级抛光技术、表面化学-机械抛光技术等的研究发展状况和目前仍然存在的问题.

磁头 纳米级抛光 计算机硬盘 硬盘表面

雒建斌 潘国顺 雷红 高峰 王亮亮 姜小平

清华大学摩擦学国家重点实验室(北京) 国家科技部国际合作司(北京)

国内会议

2002年中国机械工程学会年会

北京

中文

1005-1013

2002-12-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)