热处理对纳米薄膜电阻的影响及其稳定性研究
利用离子束溅射镀膜技术,在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO<,2>绝缘膜和NiCr纳米薄膜,用四种工艺制度对NiCr纳米薄膜电阻进行了热处理,分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定性的影响,获得了使合金薄膜电阻长期稳定的热处理工艺参数.实验结果表明:在SiO<,x>薄膜和N<,2>的保护下于温度为673K退火1小时,然后在473K下保温24小时可获得最稳定的NiCr纳米薄膜.用该工艺能制备适应各种恶劣环境的高精度压力传感器芯片.
纳米薄膜 热处理工艺 稳定性 压力传感器 电阻
彭银桥 周继承
中南大学信息材料与计算科学研究所(长沙)
国内会议
南京
中文
563-567
2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）