SiO<,2>纳米多孔薄膜的制备

摘要：

SiO<,2>纳米多孔薄膜是超大规模集成电路(ULSI)互连系统的最佳候选绝缘介质之一.本文以正硅酸乙酯、异丙醇、去离子水、盐酸、氨水为原料,采用溶胶-凝胶工艺、旋转涂胶工艺及超临界干燥工艺制备纳米多孔SiO<,2>薄膜.研究了溶剂异丙醇用量及与溶胶粘度变化的关系,考察了溶胶粘度和匀胶转速对匀胶均匀性的影响,并对纳米多孔SiO<,2>薄膜的微观形貌以及截面结构进行了分析.

关键词： 纳米多孔薄膜 溶胶-凝胶 旋转涂胶 超临界干燥 表面形貌

作者: 杨大祥 张长瑞 周新贵 冯坚 王娟 郭钊 绉思卿

作者单位: 湖南长沙国防科技大学航天与材料学院(中国长沙)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第三届纳米材料和技术应用会议

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 553-558

在线出版日期: 2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）