化学气相沉积法(CVD)制备反射镜用SiC涂层

摘要：

CVD SiC涂层广泛应用于第3代轻型反射镜上.本文利用CVD法在先驱体转化SiCp/SiC基体上制备出了致密SiC涂层,探讨了温度对涂层沉积速率的影响;通过扫描电镜(SEM)和X-射线衍射分析(XRD)对涂层的显微结构和晶型进行了分析;探讨了涂层的致密性对反射镜光学精度的影响;成功制备出了SiC反射镜.

关键词： SiC涂层 反射镜 化学气相沉积法 显微结构 制备方法 航空材料

作者: 周新贵 张长瑞 刘荣军 曹英斌 张彬

作者单位: 国防科技大学航天与材料工程学院国防科技重点实验室(长沙)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国空间科学学会空间材料专业委员会”2002学术交流会

会议地点: 北海

会议语种:中文

页码: 97-103

在线出版日期: 2002-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）