具有埃级表面粗糙度的碳化硅薄膜沉积

摘要：

本文提出了一种直接沉积出具有埃级表面粗糙度的碳化硅薄膜的方法.溅射气氛中的少量氧气具有催化和刻蚀作用,能极大地降低表面粗糙度,并且这一作用随溅射功率的增加而更加明显.经工艺优化,最终沉积出表面粗糙度R<,a>仅为1.29A的碳化硅薄膜.

关键词： 碳化硅薄膜 表面粗糙度 溅射沉积

作者: 彭晓峰 章俞之 陈杰峰 宋力昕 胡行方

作者单位: 中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机材料研发中心(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国空间科学学会空间材料专业委员会”2002学术交流会

会议地点: 北海

会议语种:中文

页码: 92-96

在线出版日期: 2002-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）