ZrO<,2>薄膜在硅烷化单晶硅表面的制备和性能研究
利用自组装成膜技术制备ZrO<,2>薄膜.应用接触角测定仪、X射线光电子能谱仪、原子力显微镜分析表征了薄膜的组成和结构.结果表明,通过硅烷偶联剂3-巯丙基-三甲氧基硅烷在单晶硅基底表面的成功组装,获得了较为均匀的硅烷化表面,而ZrO<,2>纳米微粒可以通过静电吸引力在磺酸化的自组装薄膜表面成功地进行组装从而获得ZrO<,2>薄膜.结果发现淀积在基片上的ZrO<,2>薄膜比较致密、均匀且牢固性好.摩擦磨损实验表明:利用该方法制备的ZrO<,2>薄膜经500℃烧结处理后适于在低负荷、低滑动速度下作为减摩、抗磨保护性涂层.
ZrO<,2>薄膜 自组装成膜 硅烷化表面 磨擦磨损
王金清 杨生荣 刘晓红 杨祖华
中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室(甘肃兰州)
国内会议
南京
中文
587-590
2003-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）