化学发光法测定氧氟沙星的含量

摘要：

本文利用氧氟沙星对碱性Iuminol-H<,2>O<,2>化学发光体系具有较强的增敏作用,建立了一种测定氧氟沙星的新方法.方法的线性范围为5.53×10<”-9>~2.21×10<”-5>mol/L,检测限(3σ)为5.08×10<”-11>mol/L,RSD 2.23﹪(n=8,Cs=1.38×10<”-5>mol/L).该法用于针剂、片剂及胶囊中氧氟沙星的测定,结果令人满意.

关键词： 化学发光 氧氟沙星 广谱抗菌药物

作者: 刘二保 卫洪青 韩毅丽 霍江锋

作者单位: 山西师范大学化学与材料科学学院(临汾)

会议类型: 国内会议

会议名称: 国际分析化学研讨会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 118-119

在线出版日期: 2002-09-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）