中频反应溅射SiO<,2>膜与直流溅射ITO膜在线联镀研究

摘要：

本文通过研究硅靶中频反应磁控溅射SiO<,2>膜工艺特点及氧气分压对ITO膜特性影响,研究中频反应溅射SiO<,2>膜与直流溅射ITO膜的在线联镀工艺.

关键词： 中频反应溅射 直流溅射 二氧化硅膜 ITO膜 镀膜工艺

作者: 许生 侯晓波 范垂祯 深圳市真空技术工程研究开发中心(深圳) 赵来 周海军 吴克坚 深圳市真空技术工程研究开发中心(深圳) 高文波 深圳市真空技术工程研究开发中心(深圳) 颜远全 深圳市真空技术工程研究开发中心(深圳) 查良镇

作者单位: 深圳豪威光电子股份有限公司(深圳) 清华大学电子工程系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2002中国平板显示学术会议

会议地点: 深圳

会议语种:中文

页码: 203-204

在线出版日期: 2002-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）