电沉积制备Cu/Co纳米金属多层膜与多层纳米线

摘要：

分别采用单槽法和双槽法电沉积Cu/Co多层膜.研究了两种电沉积方法制备多层膜的工艺条件,并利用电化学方法、XRD和SEM对多层膜进行表征.通过对比分析了单槽法和双槽法制备多层膜的优缺点.在此工作基础上,以多孔铝阳极氧化膜(AAO)为模板,在纳米孔内沉积Cu/Co多层线,并采用TEM对多层线进行了表征.

关键词： 电沉积 纳米金属多层膜 金属多层纳米线 铜/钴多层膜

作者: 迟广俊 冯钊永 赵瑾 姚素薇

作者单位: 天津大学化工学院(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国电镀与精饰学术年会

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 197-200

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）