等离子体离子注入硬件设计应用的几个误区——(1)高压脉冲电源
离子注入是一种有效的表面优化方法.但由于离子行走轨迹的”视线性”,它的应用在一定程度上受到了限制,尤其对于大面积注入和非规则形状工件处理.自20世纪80年代末,等离子体注入技术的出现使得离子注入研究与应用有了新的热点.该技术利用工件浸没于等离子体并利用等离子体鞘层加速的概念,使得大面积注入和”保型”处理成为可能.注入可以方便对于复杂形状物体进行而无需工件操作.该技术不仅适用于金属材料、半导体,我们的研究表明它也适用于绝缘材料的处理,如塑料、陶瓷等等.为了均匀注入并避免打火现象,脉冲高压注入多为人们采用.由于鞘层加速的特殊物理本质,使得注入处理对高压脉冲波形、脉冲电源提出了特殊的要求.注入的效果,如表面污染,剂量分布、能量分布等等均与电源特性有关.本文就高压脉冲电源设计与应用中可能的几个误区进行了讨论研究,这里包括高压开关的位置,上升/下降电路时间特性、脉宽、电压幅值等对处理结果和表面特性的影响等等.
等离子体注入 高压脉冲电源 离子注入 硬件设计
田修波 Paul K.Chu 杨士勤
哈尔滨工业大学材料学院(哈尔滨),香港城市大学物理及材料科学系 香港城市大学物理及材料科学系 哈尔滨工业大学材料学院(哈尔滨)
国内会议
北京
中文
1723-1726
2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）