射频磁控溅射制备TiO<,2>薄膜的研究

摘要：

利用射频磁控溅射技术在玻璃衬底上成功地制备了透明的TiO<,2>薄膜.在保持Ar气和O<,2>气流量比固定的前提下,研究了溅射总压强对薄膜结构与带隙的影响.为了提高TiO<,2>薄膜的光催化活性,对其进行了离子注入Sn与表面修饰贵金属Au、Ag,结果表明离子注入Sn和表面修饰贵金属Au、Ag都有效地提高了其光催化活性.

关键词： TiO<,2>薄膜 光催化活性 离子注入 表面修饰 薄膜制备 射频磁控溅射

作者: 郑树凯 王天民 王聪 郝维昌 潘锋

作者单位: 北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2002年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 896-900

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）