衬底位置对反应RF溅射法多晶ZnO:Al薄膜的影响
采用以Ar和O<,2>混合气体为溅射气体的反应RF溅射法在Si(100)衬底上制备了Al掺杂多晶ZnO(AZO)薄膜.Al掺杂是通过在金属Zn靶上放置一定数量Al片的共溅射方式实现.通过X射线衍射(XRD)分析了样品的结构特征.测量了不同衬底位置样品的折射率,计算了堆积密度,发现样品折射率和堆积密度与溅射靶表面的环形过度氧化区域有关,位于溅射靶投影中心区域样品折射率为1.95,堆积密度高达97﹪,分析认为折射率和堆积密度分布与溅射气体中O原子和O<”->离子的不均匀分布有关.
ZnO薄膜 折射率 堆积密度 衬底位置 薄膜制备 溅射法
龚恒翔 方泽波 徐大印 郭秋芬 杨映虎 王印月
绍兴文理学院物理系(浙江绍兴),兰州大学物理科学与技术学院(甘肃兰州) 兰州大学物理科学与技术学院(甘肃兰州)
国内会议
厦门
中文
449-452
2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）