提高光刻分辨率的光刻技术

摘要：

本文简要论述提高光刻分辨率的几种所谓增强光刻技术,如相移掩模技术,离轴照明和光学邻近效应校正的基本原理和相关技术.

关键词： 光刻技术 增强光刻 半导体器件 光刻分辨率

作者: 冯伯儒 张锦 四川大学物理系(中国成都) 宗德蓉 蒋世磊 苏平

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(中国成都) 四川大学物理系(中国成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 310-313

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）