无铬光刻掩模的简易制作方法

摘要：

介绍一种制作无铬光刻掩模的简易方法,即用光刻胶膜层直接作为掩蔽层在透明基片上制作光刻掩模.其基本原理是利用光刻胶对不同波长入射光的透过率不同的特性,选用对曝光波长透过率低的光刻胶直接制作光刻掩模.其制作方法是用普通匀胶机将选用的光刻胶按一定厚度均匀涂敷在透明基片上,再经曝光、显影等工艺制成有图形的光刻掩模.采用这种方法实际制作了KrF准分子激光光刻用的光刻胶掩模,并用于缩小投影光刻实验,做出了实验结果.

关键词： 光刻胶 光刻掩模 准分子激光光刻 半导体器件 制作工艺

作者: 侯德胜 冯伯儒 张锦

作者单位: 中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 302-305

在线出版日期: 2002-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）